技術(shù)文章
TECHNICAL ARTICLES化學(xué)氣相沉積是使幾種氣體在高溫下發(fā)生熱化學(xué)反應(yīng)而生成固體的方法,等離子體化學(xué)氣相沉積是通過能量激勵(lì)將工作物質(zhì)激發(fā)到等離子體態(tài)從而引發(fā)化學(xué)反應(yīng)生成固體方法。因?yàn)榈入x子體具有高能量密度、高活性離子濃度、故而可以引發(fā)在常規(guī)化學(xué)反應(yīng)中不能或難以實(shí)現(xiàn)的物理變化和化學(xué)變化,且具有沉積溫度低、能耗低、無污染等點(diǎn),因此等離子體化學(xué)氣相沉積法得到了廣泛的應(yīng)用。
微波等離子體也具有等離子體潔凈、雜質(zhì)濃度低的點(diǎn),因而微波等離子體化學(xué)氣相沉積法(MPCVD)成為制備高質(zhì)量金剛石的方法,也是目前zui有發(fā)展前景的高質(zhì)量金剛石(單晶及多晶)沉積方法之。
MPCVD設(shè)備反應(yīng)腔示意圖
金剛石具有異的力學(xué)、電學(xué)、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)性能,在眾多域具有廣泛的用途。而這些用途的實(shí)現(xiàn)在很大程度上依賴于高取向和單晶金剛石以及大面積透明金剛石膜。由于金剛石生長(zhǎng)過程中普遍存在缺陷以及難以獲取大面積范圍內(nèi)均勻溫度場(chǎng)等參數(shù),導(dǎo)致金剛石的取向發(fā)生改變,使高取向和單晶金剛石以及大面積透明金剛石膜的獲得十分困難。因此,目前金剛石研究面臨的zui大挑戰(zhàn)和困難是如何制備單晶、多晶金剛石樣品。
德國(guó)iplas公司基于 CYRANNUS® 多天線耦合技術(shù),解決了傳統(tǒng)的單天線等離子技術(shù)的局限。CYRANNUS®技術(shù)采用腔外多天線設(shè)置,確保等離子團(tuán)穩(wěn)定生成于腔內(nèi)中心位置,減少雜質(zhì)來源,提高晶體純度(制備的金剛石單晶純度可達(dá)VVS別以上)。
MPCVD系統(tǒng)可合成飾鉆石
同時(shí)穩(wěn)定的微波發(fā)生器也易于控制,可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團(tuán),zui大限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動(dòng)引起的等離子體狀態(tài)的變化,從而確保單晶生長(zhǎng)的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石及薄膜提供了有力保證。
MPCVD系統(tǒng)可合成大尺寸金剛石薄膜
MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國(guó)iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)域的積累,可以為用戶提供高度定制的設(shè)備,滿足用戶不同的應(yīng)用需要。
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