小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Microwriter ML3小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊（70cm X 70cm X 70cm），無(wú)掩膜直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

產(chǎn)品型號(hào)：Microwriter ML3

更新時(shí)間：2024-04-18

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：6741

產(chǎn)品咨詢 13021034795

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

材料制備/樣品合成

單晶爐薄膜、顆粒、膠體等制備爐子（燒結(jié)爐、電弧爐等）納米直寫(xiě)、光刻設(shè)備

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小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)Microwriter ML3是英國(guó)Durham Magneto Optics公司為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板的方法，克服了這問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦控制系列激光脈沖的開(kāi)關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

Microwriter ML3 是款多功能激光直寫(xiě)光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無(wú)掩膜直寫(xiě)系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

產(chǎn)品點(diǎn)

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。	光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。	直寫(xiě)前預(yù)檢查軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫(xiě)準(zhǔn)確。

簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件 MicroWriter 由個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。	Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等）可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定

產(chǎn)品參數(shù)

Microwriter ML3	基本型	增強(qiáng)型	旗艦型
大樣品尺寸	155×155×7mm	155×155×7mm	230×230×15mm
大直寫(xiě)面積	149mm x 149mm	149mm x 149mm	195mm x 195mm
曝光光源	405 nm LED 1.5W	405 nm LED 1.5W	385 nm LED 適用于SU-8 （365+405nm雙光源可選）
直寫(xiě)分辨率	1μm	1μm and 5 μm	0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直寫(xiě)速度	20mm²/min @ 1μm	20mm²/min @ 1μm 120mm²/min @ 5μm	25mm²/min @ 0.6μm 50mm²/min @ 1μm 100mm²/min @ 2μm 180mm²/min @ 5μm
對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭	x10	x3 and x10 自動(dòng)切換	x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換
多層套刻精度	±1μm	±1μm	±0.5μm
小柵格精度	200nm	200nm	100nm
樣品臺(tái)小步長(zhǎng)	100nm	100nm	50nm
光學(xué)輪廓Z分辨率	無(wú)(可升)	300nm	100nm
樣品表面自動(dòng)對(duì)焦	是	是	是
灰度直寫(xiě)(255)	是	是	是
自動(dòng)晶片檢查工具	無(wú)(可升)	有	有
溫控樣品腔室	無(wú) (可升)	無(wú) (可升)	有
虛擬模板校準(zhǔn)工具	無(wú)(可升)	無(wú)(可升)	有
氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái)	無(wú)(可升)	無(wú)(可升)	有